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1、去 除 磷 硅 玻 璃 2 v在擴散過程中發(fā)生如下反應(yīng)：v POCl3分解產(chǎn)生的P2O5淀積在硅片表面， P2O5與Si反應(yīng)生成SiO2和磷原子：v這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2，稱之為磷硅玻璃。什么是磷硅玻璃？ PSiOSiOP 4552 252 3 2 2 5 24 5 2 6PCl O PO Cl 3 磷硅玻璃的去除v氫氟酸是無色透明的液體，具有較弱的酸性、易揮發(fā)性和很強的腐蝕性。但氫氟酸具有一個很重要的特性是它能夠溶解二氧化硅，因此不能裝在玻璃瓶中。v在半導(dǎo)體生產(chǎn)清洗和腐蝕工藝中，主要就利用氫氟酸的這一特性來去除硅片表面的二氧化硅層。 4 v氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因為氫

2、氟酸能與二氧化硅作用生成易揮發(fā)的四氟化硅氣體。v若氫氟酸過量，反應(yīng)生成的四氟化硅會進一步與氫氟酸反應(yīng)生成可溶性的絡(luò)和物六氟硅酸。v總反應(yīng)式為：O2HSiF4HFSiO 242 SiFH2HFSiF 624 O2HSiFH6HFSiO 2622 5 去除磷硅玻璃工藝清洗液配制裝片開機投片清洗甩干 6 清洗液配制v將各槽中破損硅片等雜質(zhì)清除，用去離子水將各槽壁沖洗干凈。v1號槽中注入一半深度的去離子水，加入氫氟酸，再注入去離子水至溢流口下邊緣。v向后面的槽中注滿去離子水。 7 裝片v經(jīng)等離子刻蝕過的硅片，檢驗合格后插入承片盒。v注意，經(jīng)過磷擴散處理的表面，刻蝕之后硅片在插入承片盒時也嚴(yán)格規(guī)定了放置方向。每盒25片，扣好壓條，投入清洗設(shè)備。 8 注意事項v在配制氫氟酸溶液時，要穿好防護服，戴好防護手套和防毒面具。v不得用手直接接觸硅片和承載盒。v當(dāng)硅片在1號槽氫氟酸溶液中時，不得打開設(shè)備照明，防止硅片被染色。v硅片在兩個槽中的停留時間不得超過設(shè)定時間，防止硅片被氧化。 9 檢驗標(biāo)準(zhǔn)v當(dāng)硅片從1號槽氫氟酸中提起時，觀察其表面是否脫水，如果脫水，則表明磷硅玻璃已去除干凈；如果表面還沾有水珠，則表明磷硅玻璃未被去除干凈。v甩干后，抽取兩片硅片，在燈光下目測：表面干燥，無水跡及其它污點。