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直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì)

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1、第3期 2005年9月 .3 Sep. .2(X)5 M1CROEABR1CATION TECHNOLOGY :1003-8213(2005)03-0076-05 直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) 楊開(kāi)明,葉佩青,尹文生 (清華大學(xué)精儀系制造工程研究所.北京100084) :為了提高精密工作臺(tái)的軌跡跟蹤精度和動(dòng)態(tài)響應(yīng)性能,基于辨識(shí)岀的控制對(duì)象 離散化模型?利用極點(diǎn)配置方法設(shè)計(jì)了精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器的前饋環(huán)節(jié)和反饋環(huán) 節(jié),構(gòu)成具有兩自由度結(jié)構(gòu)的精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)。通過(guò)實(shí)驗(yàn)?與PD +加速度 前饋的控制方式相比較.精密工作臺(tái)靜態(tài)定位誤差提高了 0.5M m;當(dāng)精密工作臺(tái)以

2、 120 mm/ s勻速運(yùn)動(dòng)時(shí),軌跡跟蹤精度提高了 3口 m;定位建立時(shí)間縮短了 10 ms。結(jié)果 表明採(cǎi)用極點(diǎn)配置方法設(shè)計(jì)的運(yùn)動(dòng)控制器具有較好的動(dòng)態(tài)響應(yīng)和軌跡跟蹤性能。 :精密工作臺(tái):直線削機(jī):運(yùn)動(dòng)控制;極點(diǎn)配賣 :TP273 :A 1994-2010 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved, 第3期 2005年9月 .3 Sep. .2(X)5 1994-2010 China Academic Journal Electronic Pub

3、lishing House. All rights reserved, 第3期 2005年9月 .3 Sep. .2(X)5 :楊開(kāi)明(1970-),男?云南楚雄市人.博士研究生,主要研究精密運(yùn)動(dòng)控制及數(shù)字控制技術(shù)。 用于半導(dǎo)體光刻、液晶制造、精密測(cè)量、 精密加工等領(lǐng)域的精密工作臺(tái),為了實(shí)現(xiàn)大 行程、高速、高精度運(yùn)動(dòng),大都采用直線 電機(jī)十氣浮導(dǎo)軌的直接驅(qū)動(dòng)形式Z 21 ?實(shí)現(xiàn) 了非接觸驅(qū)動(dòng),因而具有機(jī)械結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、無(wú)摩 擦、驅(qū)動(dòng)分辨率高等優(yōu)點(diǎn)。與此同時(shí),為了滿 足精密工作臺(tái)高速、高精度的運(yùn)動(dòng)性能?要求 控制系統(tǒng)具有極高的動(dòng)態(tài)響應(yīng)和軌跡跟蹤性 能“宀。 在數(shù)控機(jī)床、機(jī)器

4、人等機(jī)電控制領(lǐng)域?最 常用的運(yùn)動(dòng)控制方法就是P1D控制?它具有 結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、不需要精確的控制對(duì)象模型、有較 好的控制魯棒性以及易于實(shí)現(xiàn)等優(yōu)點(diǎn)?但由 于其設(shè)計(jì)參數(shù)最多不超過(guò)三個(gè),因此設(shè)計(jì)自 由度時(shí)受到限制。雖然可以通過(guò)附加各種補(bǔ) :2004-12-07 ; :2005-06-06 :國(guó)家863資助項(xiàng)目(2OO1AA42326O) 償環(huán)節(jié)來(lái)進(jìn)一步提髙系統(tǒng)的性能⑴但也 很難做到和控制對(duì)象模型的匹配,而且各補(bǔ) 償環(huán)節(jié)有可能相互干涉,從而影響補(bǔ)償效果O 針對(duì)直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)、氣浮導(dǎo)軌支撐的精 密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制,基于辨識(shí)岀的控制對(duì)象 離散化模型,利用極點(diǎn)配置方法設(shè)計(jì)了精密 工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器的前饋環(huán)節(jié)和反饋

5、環(huán)節(jié), 構(gòu)成具有兩自由度結(jié)構(gòu)的精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控 制系統(tǒng),以滿足精密工作臺(tái)的動(dòng)態(tài)響應(yīng)和軌 跡跟蹤性能,提高了精密工作臺(tái)的運(yùn)動(dòng)控制 效果。 2 [5? 7] 本文中所采用的控制器結(jié)構(gòu)如圖1所 示。由圖可知.控制器結(jié)構(gòu)包括反饋補(bǔ)償器 1994-2010 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved, 第3期 楊開(kāi)明等:直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) 79 和聞饋補(bǔ)償器兩部分?其中:Gp(z)是通過(guò)辨 識(shí)得到的控制對(duì)象離散域模型,C(Z),D

6、/D(z)是前 饋控制器,P(Z)/D( Z丿是反饋控制器O 圖1直線屯機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器結(jié)構(gòu)圖 圖1中,控制對(duì)象的模型Gp(z)如式 ⑴所示: 仞—+加;:"+ +際? < .1 ? 2 1 +乙 十乙 + + aiz ⑴ 通過(guò)對(duì)Gp(z丿進(jìn)行辨識(shí),I m , a\t(i2 ,…,ai 以及b\, b2,…,bm均可確定。 圖1中?閉環(huán)系統(tǒng)特征多項(xiàng)式Aci(z-*)為 Aci(z) = Ac(z !) Ao( Z *)= A(z1)D( z )+ P(z) ⑵ 其中:Acl(z-*)包含閉環(huán)控制系統(tǒng)的所有主 導(dǎo)極點(diǎn)/。(廠J包含閉環(huán)

7、控制系統(tǒng)的所有 輔助極點(diǎn)Med)是反饋控制多項(xiàng)式, a(D是觀測(cè)器多項(xiàng)式。 控制器極點(diǎn)配置設(shè)計(jì)就是通過(guò)設(shè)計(jì) D(Z丿以及P(Z),使得閉環(huán)控制系統(tǒng)特征多 項(xiàng)式的零點(diǎn)在Z平面上有預(yù)期的分布?從而 滿足控制性能要求。閉環(huán)控制系統(tǒng)特征多項(xiàng) 式的零點(diǎn)在Z平面上的零點(diǎn)預(yù)期分布由 Ad(z-1)確定。 控制器設(shè)計(jì)時(shí),首先根據(jù)系統(tǒng)的因果性 約束條件以及控制系統(tǒng)對(duì)卩々丿和D {(z) 的動(dòng)作要求(是否要求有積分作用或者零點(diǎn) 對(duì)消丿確定AciCz1) ,P(Z)fDl(z)以及 CC丿的階數(shù)?其因果條件如下: deg( P( z))

8、)), deg(Ao(z)) 2deg(A"))? 1 (4) 然后?根據(jù)系統(tǒng)的控制要求(控制帶寬、相對(duì) 阻尼率)選擇和確定Ac(z *)和A(D的 階次和參數(shù)Mc(z-*)的各項(xiàng)系數(shù)也可以根 據(jù)ITAE準(zhǔn)則確定。 求解式(2),可得到P"丿和D-(z)的 各項(xiàng)系數(shù)。此時(shí),控制器Cz丿可以根據(jù)式 (5)求取, c( Ao( z) (5) 根據(jù)上述步驟,就可以設(shè)計(jì)岀精密工作 臺(tái)控制器P(Z)以及C(z) o 3 首先采用正弦波掃頻的方式?辨識(shí)的

9、是 精密工作臺(tái)動(dòng)力學(xué)模型的頻率響應(yīng)特性,根 據(jù)直線電機(jī)電流環(huán)采樣頻率和運(yùn)動(dòng)控制卡采 樣頻率之間的關(guān)系,系統(tǒng)存在一個(gè)采樣周期 的滯后,滯后時(shí)間為11O.7US。采用Pade時(shí) 間滯后近似方法對(duì)延遲環(huán)節(jié)進(jìn)行處理?因此 傳遞函數(shù)中包含有時(shí)間延遲的近似環(huán)節(jié)。系 統(tǒng)采樣周期為H0.7MS,對(duì)所獲得的連續(xù)域 傳遞函數(shù)進(jìn)行雙線性變換?可得精密工作臺(tái) 離散域傳遞函數(shù) Gp( z )= 10 “ (0.2X8 1 + 1, 153 ? + 1.729 —十 1 ? 3.708z - 1 + 5. 152z2- 1. 153「- +0.2XX 1 了 “丿 3. 179z" + 0.735 33 z4

10、 由式(6丿可得 A(z1)= 1?3?708乙“十5?152z? 3.719z_3 +0.735 3z-4 (7丿 = 10-6(0.288 1 + 1. 153z_ 1 + 1.729z-2 + 1.153z-3 + 0.288 1 z4) (8) 根據(jù)精密工作臺(tái)的運(yùn)動(dòng)控制要求,確定 控制器的控制帶寬為90 Hz,阻尼率為0. 7 o 根據(jù)式(3)和式(4)確定的控制系統(tǒng)各項(xiàng)階數(shù) 條件?可得控制多項(xiàng)式Ac(z)為4階?觀測(cè) 多項(xiàng)式Ao(z1)階數(shù)為4階,且有實(shí)的重極 點(diǎn),因此系統(tǒng)的特征多項(xiàng)式參數(shù)就可以確定O Ac(z~) =(z2 ? 1.709z +0.746 8丿 (z

11、— 1.52z +0.614 1) (9) Ao(z1) =(z ? 0.499尸々2 ? 1.709 z + 0. 746 8) (10丿 P(Z l)fD l(z)以及C⑴的階次分別 為3,4和4,通過(guò)求解式(2丿所示的方程可得 *) = 1 - 2.422Z 1 + 2.248z2 ? 0.921 6z-3 + 0. 141 3z-4 (11丿 P( z =881.3 ? 2 351 z-1 + 2 090 z ? 2 ? 619.7z-3 (12 丿 C(z *)=94.57 J- 256 J 十 255.5/- 110.7^ + 17.58 (13 丿 運(yùn)動(dòng)控制

12、卡為具有開(kāi)放伺服算法的 Turbo-PMAC1 ,16位D/A輸岀,輸岀電壓 10.0 V ,運(yùn)動(dòng)控制卡的采樣周期即控制卡 的D/A刷新周期T為110MS.直線電機(jī)反饋 光柵分辨率為0. IP m ,工作臺(tái)及控制器參數(shù) 如表1所示。利用PMAC的數(shù)據(jù)采集功能, 采集光柵數(shù)據(jù)?然后利用Matlab繪岀控制 結(jié)果。 精密工作臺(tái)采用美國(guó)寶德公司的 LMF14FD直線電機(jī),電流環(huán)控制器的控制 周期為125J1S,控制帶寬為2 000 rad/So 圖2所示為本文所提方法設(shè)計(jì)的控制器 的仿真和實(shí)測(cè)階躍響應(yīng)曲線。由圖2 可以看岀?系統(tǒng)的上升時(shí)間、超調(diào)量、建立時(shí) 采集時(shí)間人 h 1 gm階躍

13、響應(yīng)仿真 1 15 2 25 3 33 采集時(shí)間" bl Pm階躍響應(yīng)實(shí)測(cè) 鋒 ).5 圖2精密工作勻?qū)崪y(cè)l.U m階躍響應(yīng) 圖3比較了 PD + AF(比例微分十加速 度前饋)控制器與本文所提方法設(shè)計(jì)的控制 器在無(wú)控制指令輸入時(shí)精密工作臺(tái)的靜態(tài)定 位誤差。由圖3可以看岀,采用PD + AF控 制時(shí)?靜態(tài)定位誤差在之間,當(dāng)采用 極點(diǎn)配置控制器時(shí),靜態(tài)定位誤差在 0.5p m之間 o 2 0 05 I 1.5 2 25 3 35 采集時(shí)間人 a PD+AF控制 -2 1 0.5 0 0 05 1 1.5 2 25 3 35 采集時(shí)間/* b極點(diǎn)配晝控制 圖

14、3精密工作臺(tái)靜態(tài)定位誤差 圖4比較了 PD + AF與本文設(shè)計(jì)的控制 器軌跡跟蹤性能。精密工作臺(tái)以120 mm/s 勻速運(yùn)動(dòng),采用PD + AF控制方式時(shí)的軌跡 跟蹤誤差穂態(tài)值為1?5卩m .工作臺(tái)跟蹤誤差 波動(dòng)范園為3Min,而采用極點(diǎn)配置控制器 采集時(shí)間人 日PD+AF控制 采集時(shí)間八 b極點(diǎn)配程控制 圖4精密工作臺(tái)軌跡跟蹤誤差 由圖2、圖3和圖4可以看岀,采用極點(diǎn) 配置方法設(shè)計(jì)岀的精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器, 精密工作臺(tái)的軌跡跟蹤精度得到了提高,具 有較好的動(dòng)態(tài)特性。 表1精密工作臺(tái)及運(yùn)動(dòng)控制器參數(shù) 頂目 符號(hào) 數(shù)值 直線電機(jī)電流環(huán)比例增益 3

15、.722 6 直線電機(jī)電流環(huán)徽分增益 228.833 直線電機(jī)電流環(huán)采樣周期心S Ti 50 直線電機(jī)電流環(huán)控制帶寬/(rad S-* )3 2 000 直線電機(jī)推力常數(shù)/(N A ) 燈 74.2 控制器采樣周卿Us T 110.7 工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)部件質(zhì)重/kg M 11.7 5 本文中基于極點(diǎn)配置方法設(shè)計(jì)的精密工 作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器,其設(shè)計(jì)自由度增加了 ?有利 于設(shè)計(jì)岀高性能的運(yùn)動(dòng)控制器。通過(guò)比較 PD + AF與本文提岀控制器兩種方式的控制 結(jié)果表明,采用基于極點(diǎn)配置方法設(shè)計(jì)的控 制器可以有效提高精密工作臺(tái)的軌跡跟蹤精 度,而且控制器動(dòng)態(tài)特性較好。 1

16、1] 大蟲(chóng)二郎.羽山定治?大龜康二?精密超精密 位置顒⑵加狀凸備來(lái)予想[J ]?精密工學(xué)會(huì) 誌,2(X)1 .67(2) :173 ? 17& 12) 堀內(nèi)宰?精密超精密位直耽的(Z)髙速化[J]. 精密工學(xué)會(huì)誌,2001 ,67(2) : 179 - 183. |3] ?黠 ,新野秀制.髙速"1卜啊立直朝《) > X r厶①鳳肪上基本特性娜f(wàn)fi IJ]. H 本 Mi械學(xué)會(huì) Ki 文集,1998,64 ( 626) C: 411 ? 416. 14]涌井伸二? "i位直制御系6DP1D前整Q ?TS考寮卩]?精密工學(xué)會(huì),1999 .65(5): 763 - 767. 15 ]

17、Chen Chwair Hsen .Brussel Hendrik Van ,Swev- ers Jan. Extended pole placement method with noncausiil reference model for digital servo con- trol[J ]. ASMEJournal of Dynamic System Measure menl and Control ,1995 J 17 :641 ? 644? [6] Astrom Karl J , Wittenmark Bjorn? Computer conlrolled Systenr Theor

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19、等:直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) # Motion Controller Design of Precision Stage Rised on Linear Motor YAN G Kai-mi ng , YE Pei-qing , YIN Weng-sheng (Department of Precision Instruments and Mechanology .Tsinghua University .Beijing 100084 , China) Abstract :ln order to improve the tracking accuracy and dynam

20、ical response of the precision stage , based on the discrete model of the identified control object , pole assignment method is used to de? sign the feedforward loop and feedback loop of the motion controller for the precision stage. In the test experiments , compared to the PD control with accelera

21、tion feedforward , the static positioning accuracy is improved by 0. 5M m , and the tracking accuracy is improved by 3M m at the uniform speed of 120 mm/s, while the positioning establishment time is reduce by 10 ms. The results show that motion controllers based on the pole assignment method have m

22、uch better dynamical response and tracking performance. Key words :precision stage ; linear motor; motion control; pole assignment 1994-2010 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved, 第3期 楊開(kāi)明等:直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) # 1994-2010 China Academic Journal Electron

23、ic Publishing House. All rights reserved, 第3期 楊開(kāi)明等:直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) # (上接第41頁(yè)) applicalions in micixrelectixrmechanical systems (MEMS) [J ] ? R)lymcr Testing, 2001 , 20: 693 - 701 ? [7 ] Kudryashov V . Yuan X C . Cheong W C .el al? Grey scale structures formation in SU?8 with e- beam and UV

24、|J ]? MicrDclectronic Engineering , 2003,67 ? 68: 306 ? 311. [8 ] Peter M C. Huie P, Bloom D M , et al? Building thick photoresist structures hum the txniom up[J ]? J Micivniech Miciueng, 2003 , 13 : 380 ? 382? [9 ] Manhec Han , Lee Woonseob , Lee Suit Keun ,et al? 3D inicn)fabrication with incli

25、ned/ n)tated U V lithography | J ]? Sensors and Actuators, 2004 , Alli : 14 ? 20. [10] Ling Zhong-geng , Lian Kun , Jian Linke. proved patterning quality of SU-8 niiciustructures by optimizing (he exposure parameters | A). Pine SPIE-Int Soc Opt Eng |C). USA: SPIE. 2(X)0,3999: 1019 - 1027. 1994-2

26、010 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved, 第3期 楊開(kāi)明等:直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) # 1994-2010 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved, 第3期 楊開(kāi)明等:直線電機(jī)精密工作臺(tái)運(yùn)動(dòng)控制器設(shè)計(jì) # Process Optimization of Optical Lithography of Sl>8 Photoresist

27、 ZHANG Ye, CHEN Di , ZHANGJin-ya, N1 Zhi-ping , ZHU J un , LIU Jin^quan (State Key Laboratory of Micro/ Nano Fabrication Technology . Thin Him and Microtechiiology Key Laboratory of Ministry of Education , Institute of Miciu/ Nano Science and Technology , Shanghai Jiao Tong Universily , Shanglui

28、i 200030 , China) Abstract:Process parameters of SU?8 photoresist based UV?L IGA technique were optimized. The influences of expose time and the wavelength of expose source (on the resist formation) were investigated. The line width of photoresist surface first decreased then increased with expose

29、time. It has a minimum. The sidewall angle first increased then decreased with expose time. It has a maximum? We have optimized the process parameters like wavelength of expose source , expose time and developing time to fabricate 300 p nr thickness microstructures with sidewall angle of 90. 64 and those of 500 M nr thickness with si de wall of 89- 98. Key words :UV-L IGA; SU?8 photoresist; high aspect ratio ; microstructure 1994-2010 China Academic Journal Electronic Publishing House. All rights reserved,

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