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超聲波清洗機(jī)的工藝流程 一、有機(jī)溶劑清洗采用的清洗流程如下: 有機(jī)溶劑清洗劑超聲波-水基清洗劑超聲波-市水漂洗-純水漂洗-IPA異丙醇脫水-IPA慢拉干燥。 有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS消耗臭氧層物質(zhì)產(chǎn)品目前處于強(qiáng)制淘汰階段而 長(zhǎng)期使用三氯乙烯易導(dǎo)致職業(yè)病而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定容易水解呈酸性因此會(huì)腐蝕鏡片及設(shè)備。對(duì)此國(guó)內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑可 用于清洗光學(xué)玻璃并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標(biāo)可有效滿足不同設(shè)備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過(guò)程中鏡片表面有一層很難處理的漆片要求使 用具備特殊溶解性的有機(jī)溶劑部分企業(yè)的清洗設(shè)備的溶劑清洗槽冷凝管較少自由程很短要求使用揮發(fā)較慢的有機(jī)溶劑另一部分企業(yè)則相反要求使用揮發(fā)較快的有機(jī)溶 劑等。 水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物溶劑對(duì)其清洗能力很弱所以鏡片加工過(guò)程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的故而對(duì) 水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國(guó)內(nèi)的光學(xué)玻璃專用水基清洗劑品種較少很多外資企業(yè)都選用進(jìn)口的清洗劑。而目前國(guó)內(nèi)已有公司開(kāi)發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑并 成功地應(yīng)用在國(guó)內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠清洗效果完全可以取代進(jìn)口產(chǎn)品在腐蝕性防腐性能等指標(biāo)上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。對(duì)于IPA慢拉干燥需要說(shuō)明的一點(diǎn)是某些種類的鏡片真空干燥后容易產(chǎn)生水印這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān)另一方面與清洗設(shè)備有較大的關(guān)系尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好需要設(shè)備廠家及用戶注意此點(diǎn)。 二、半水基清洗采用的清洗流程如下:半水基清洗劑超聲波-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥此種清洗工藝同溶劑清洗 相比最大的區(qū)別在于其前兩個(gè)清洗單元，有機(jī)溶劑清洗只對(duì)瀝青或漆片具有良好的清洗效果但卻無(wú)法清洗研磨粉等無(wú)機(jī)物半水基清洗劑則不同不但可以清洗瀝青等有 機(jī)污染物還對(duì)研磨粉等無(wú)機(jī)物有良好的清洗效果從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點(diǎn)是揮發(fā)速度很慢氣味小。采用半水基清 洗劑清洗的設(shè)備在第一個(gè)清洗單元中無(wú)需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大并且對(duì)后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用所以第二個(gè)單元須市 水漂洗并且最好將其設(shè)為流水漂洗。國(guó)內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多其中一個(gè)原因是半水基清洗劑多為進(jìn)口價(jià)格比較昂貴。從水基清洗單元開(kāi)始半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。 三、兩種清洗方式的比較溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快效率比較高溶劑本身可以不斷蒸餾再生循環(huán)使用但缺點(diǎn)也比較明顯由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境 要求恒溫恒濕均為封閉車間溶劑的氣味對(duì)于工作環(huán)境多少都會(huì)有些影響尤其是使用不封閉的半自動(dòng)清洗設(shè)備時(shí)。 半水基清洗是近年來(lái)逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)而得來(lái)的。它有效地避免了溶劑的一些弱點(diǎn)可以做到無(wú)毒氣味輕微廢液可排入 污水處理系統(tǒng)設(shè)備上的配套裝置更少使用周期比溶劑要更長(zhǎng)在運(yùn)行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突出的一個(gè)優(yōu)點(diǎn)就是對(duì)于研磨粉等無(wú)機(jī)污染物具有良好的清 洗效果極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力延長(zhǎng)了水基清洗劑的使用壽命減少了水基清洗劑的用量降低了運(yùn)行成本。缺點(diǎn)就是清洗的速度比溶劑稍慢并且必 須要進(jìn)行漂洗。 1、研磨后的清洗研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量外觀和精度的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青少數(shù)企業(yè)的加工過(guò)程中會(huì)有漆 片。其中研磨粉的型號(hào)各異一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同選擇不同型號(hào)的研磨粉。在研磨過(guò)程中使用的瀝青是起保護(hù)作用 的以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種一種主要使用有機(jī)溶劑清洗劑另一種主要使用半水基清洗劑。 2、鍍膜前清洗鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油也稱磨邊油求芯也稱定芯、取芯指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R 片潔凈度的要求極為嚴(yán)格因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時(shí)還要考慮到他的腐蝕性等方面的問(wèn)題。鍍膜前的清洗一般也采用與研磨 后清洗相同的方式分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學(xué)藥劑類型如前所述。 3、鍍膜后清洗一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗其中接合前清洗接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀以滿足無(wú)法一次加工成型的需求或制 造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序要求最為嚴(yán)格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物清洗難度不大但對(duì)于鏡片表面潔凈度有非常高的要求其 清洗方式與前面兩個(gè)清洗工藝相同。